有一句话说的好，"三十年河东，三十年河西，莫欺少年穷"。过去，中国在许多领域的核心技术都被西方"卡脖子"，但现在经过多年的不懈努力，已经克服了许多领域的困难，比如我们熟悉的光刻机就是其中的一个典型例子。

众所周知，光刻机是制造集成电路的核心设备。也就是说，每一块芯片在诞生之初都是由光刻机锻造的，因此光刻机的精度直接决定了芯片性能的上限。

但是，由于高精度光刻机被荷兰ASML公司垄断，该公司曾经在中国禁止使用这种光刻机，这也导致了芯片在中国的发展缓慢。

为此，中国研究人员决定挑战这种"夹颈"设备。经过长时间的努力，他们终于有所收获。最近，有消息称，一种新的方法创造了一个9纳米光刻测试原型。

你知道，去年11月通过验收的"超分辨率光刻设备研制"的分辨率只有10纳米。现在我们已经达到了9纳米的水平。相信未来7纳米以下的技术节点会越来越近。别人很难再考虑我们的脖子了。

此外，值得一提的是，中国科研人员研制的9纳米光刻实验样机是一种没有任何参考技术的新方法，其光刻技术与目前主流的光刻机不同。

目前，主流光刻机通过不断减小光刻波长来作用于光刻胶，但我们采用两束激光同时作用于光刻胶，利用远场光学突破光束衍射极限，从而产生最小线宽为9nm的光刻线。因此，无论从哪个角度看，这都是一次重大的创新，也体现了我们面对高难度技术勇敢攀登科技"高山"的精神。我们每个人都值得学习！